硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法
授权
摘要
本发明属于光刻领域，公开了一种硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法。所述硬掩膜组合物含有聚合物以及溶剂，所述聚合物具有化学式1所示的结构，其中，R1和R2各自独立地表示被至少一个氧原子间隔开的碳原子数为2～15的取代或非取代烷基或含有羰基的基团；R3表示碳原子数为1～5的取代或非取代烷基或者碳原子数为6～50的直链或支链芳基；n为1～500的整数。本发明提供的硬掩膜组合物具有优异的溶剂溶解性、空隙填充特性和平坦化特性，由其形成的硬掩膜具有良好的耐刻蚀性。
基本信息
专利标题 ：
硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111240153A
申请号 ：
CN202010087862.8
公开（公告）日 ：
2020-06-05
申请日 ：
2020-02-12
授权号 ：
CN111240153B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
王静肖楠宋里千
申请人 ：
厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号
代理机构 ：
厦门市精诚新创知识产权代理有限公司
代理人 ：
秦华
优先权 ：
CN202010087862.8
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/11 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2020-06-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20200212
申请日 : 20200212
2020-06-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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