用于测定设备的反应井孔
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摘要
本公开涉及一种用于同时填充多个样品腔室的装置。在一个方面，该装置包括公共流体源和多个独立的连续流控路径。每个独立的连续流控路径包括样品腔室和气动隔室。样品腔室连接到公共流体源，并且气动隔室连接到样品腔室。样品腔室部分地包括测定腔室。测定腔室包括整体式基体和塞子。在一些实施例中，测定腔室包含磁性混合元件。在一些实施例中，测定腔室是双锥形腔室。在一些实施例中，对于多个流控路径中的每个流控路径，样品腔室的体积与气动隔室的体积的比率基本上相等。
基本信息
专利标题 ：
用于测定设备的反应井孔
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112041068A
申请号 ：
CN201980021278.8
公开（公告）日 ：
2020-12-04
申请日 ：
2019-03-22
授权号 ：
CN112041068B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
托马斯·H·考利三世
申请人 ：
达丽斯生物医学公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
李慧慧
优先权 ：
CN201980021278.8
主分类号 ：
B01L3/00
IPC分类号 ：
B01L3/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01L
通用化学或物理实验室设备
B01L3/00
实验室用的容器或器皿，如实验室玻璃仪器；点滴器
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-12-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01L 3/00
申请日 : 20190322
申请日 : 20190322
2020-12-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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