基于内同轴视觉的自动对焦装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种基于内同轴视觉的自动对焦装置,包括控制器、与所述控制器连接的相机和调焦平台、指示光源、激光光源、合束镜、振镜、场镜以及工件台;所述振镜、场镜安装在调焦平台上;所述合束镜安装在指示光源和激光光源的出射路径上,用于将激光光源和指示光源产生的光脉冲进行合束;所述激光光源用于产生加工激光,所述指示光源用于产生指示激光;本实用新型通过内同轴视觉自动对焦及软件算法补偿,使激光加工产品的焦点处于加工焦点的范围内,提高激光加工后产品的一致性,从而使设备一直处于良好的加工状态,降低设备加工产品的不良率,提高设备的稼动率。

基本信息
专利标题 :
基于内同轴视觉的自动对焦装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922465516.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-31
授权号 :
CN211669428U
授权日 :
2020-10-13
发明人 :
王建刚刘勇万仁钦裴雷董雪缘戚云飞
申请人 :
武汉华工激光工程有限责任公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖开发区华中科技大学科技园激光产业园
代理机构 :
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 :
徐瑛
优先权 :
CN201922465516.4
主分类号 :
G02B7/28
IPC分类号 :
G02B7/28  B23K26/046  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/28
聚焦信号的自动发生系统
法律状态
2020-10-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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