一种真空吸附台面及曝光机
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空吸附台面及曝光机，真空吸附台面包括台面主体、遮盖面板、面板驱动装置，台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；遮盖面板覆盖在台面主体上，遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向；面板驱动装置驱动遮盖面板伸缩。曝光机包括真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件，真空吸附台面安装在运动组件上并在运动组件的驱动下在支架的下方运动，曝光镜头安装在支架上。本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机，通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔，以避免破真空吸附力不够，使其适用于不同大小的工件，节省了人力，也提高了稳定性，提高了产能。
基本信息
专利标题 ：
一种真空吸附台面及曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922461093.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN212009275U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
张雷
申请人 ：
源能智创（江苏）半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平（昆山）智造园
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922461093.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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