一种新型不停机抛光设备取放料的位离合结构
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摘要
本实用新型公开了一种新型不停机抛光设备取放料的位离合结构，属于脆性材料产品抛光加工技术领域。本实用新型包括：工件盘公转系统、工件盘自转系统；工件盘公转系统包括主轴，主轴底部设置有链轮，主轴一侧设置有主轴轴套，主轴轴套上设置有大轴承座，大轴承座下设置有旋转轴，从动齿轮和深沟球轴承中部垂直设置有传动销，传动销下与离合盘相连；工件盘自转系统包括：光轴，光轴底部垂直连有推板，并在光轴顶部设置有拉钩，推板与气缸相连接，下盘轴套内设有圆锥滚子轴承，圆锥滚子轴承与下盘轴相关联，下盘轴外侧设置有导向轴，导向轴外部设置有弹簧。本实用新型使用方便，可实现不停机取放料，提高工作效率和产能。
基本信息
专利标题 ：
一种新型不停机抛光设备取放料的位离合结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922327498.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN211540780U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
潘相成
申请人 ：
常州市好利莱光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区罗溪镇旺财路10号
代理机构 ：
常州市天龙专利事务所有限公司
代理人 ：
翟丹丹
优先权 ：
CN201922327498.3
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B41/00 B24B41/06 B24B47/12 F16D25/061 F16D25/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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