一种基于双重固定的固体核径迹蚀刻架
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于双重固定的固体核径迹蚀刻架，至少包括：支撑座(1)，其上能够设置若干个用于放置探测器的卡槽(2)，所述固体核径迹蚀刻架还包括辅助固定架(3)，其中，辅助固定架(3)的第一端(3a)能够铰接至支撑座(1)的第二端(1a)，在所述探测器嵌套设置于所述卡槽(2)中的情况下，所述辅助固定架(3)能够按照绕其第一端(3a)旋转以使得其第三端(3b)抵靠至支撑座(1)的第四端(1b)的方式抵靠至所述探测器。
基本信息
专利标题 ：
一种基于双重固定的固体核径迹蚀刻架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922264591.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN212031754U
授权日 ：
2020-11-27
发明人 ：
丁艳秋王晨郭文王恺怡胡爱英
申请人 ：
中国疾病预防控制中心辐射防护与核安全医学所
申请人地址 ：
北京市西城区新康街2号
代理机构 ：
北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
侯越玲
优先权 ：
CN201922264591.4
主分类号 ：
G01T5/02
IPC分类号 ：
G01T5/02 G01T7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T5/00
粒子的运动或轨迹的记录；粒子轨迹的处理或分析
G01T5/02
轨迹的处理；轨迹的分析
法律状态
2020-11-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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