电磁反射膜
授权
摘要
本实用新型涉及一种电磁反射膜，包括导电层和设置于导电层上的凸出结构，凸出结构包括多个凸部，多个凸部间隔设置于导电层的表面，多个凸部中至少一部分的凸部之间的间距不同。该电磁反射膜通过在导电层表面设置凸出结构，使入射的电磁波在导电层表面发生反射和漫反射，改变电磁波原来的传播方向，进而增强指定范围内的电磁波强度。
基本信息
专利标题 ：
电磁反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922101704.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN210984968U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
苏陟高强
申请人 ：
广州方邦电子股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区开源大道11号A5栋第六层
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN201922101704.9
主分类号 ：
H01Q15/14
IPC分类号 ：
H01Q15/14 H01Q15/18 H01Q15/16
法律状态
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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