一种面蒸镀源结构和设备
授权
摘要
本实用新型提供一种面蒸镀源结构和设备，包括坩埚、扩散腔和分散板，扩散腔设置在坩埚开口上，所述扩散腔底部开口坩埚顶部开口等大，扩散腔内设置有扩散板，扩散板上面设置有多个蒸汽扩散孔，扩散腔的开口由下往上依次增大，分散板盖在扩散腔的上开口处，分散板为平面板状结构，分散板上设置有多个喷嘴，所述喷嘴贯通分散板的上下面，所述喷嘴在分散板上均匀排列。上述技术方案通过在坩埚上的整个开口上设置扩散腔，可以减少扩散腔的侧壁面积，可以有效改善有机材料的利用率，降低蒸镀制程生产成本。可以缩小蒸镀设备整体的体积，降低设备采购成本。且通过扩散板的喷嘴，可以改善蒸镀成膜均匀性，可以提升蒸镀良率，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种面蒸镀源结构和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922007321.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN211112187U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
罗云鹏
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐剑兵
优先权 ：
CN201922007321.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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