一种用于磁控靶的收放式挡板及含其的磁控溅射镀膜机
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于磁控靶的收放式挡板及含其的磁控溅射镀膜机，所述收放式挡板竖直放置，并包括气缸、挡板轴、第一连片、第二连片和靶挡板，所述气缸设在所述收放式挡板的顶部，所述挡板轴固定连接气缸的活塞，并能够随活塞做伸缩运动，所述第一连片的顶部固定在气缸外部，底部铰接所述靶挡板，所述第二连片的顶部连接挡板轴，底部连接靶挡板；所述靶挡板设在所述收放式挡板的底部，所述挡板轴通过第二连片带动靶挡板相对于第一连片做伸展或收缩闭合的运动。
基本信息
专利标题 ：
一种用于磁控靶的收放式挡板及含其的磁控溅射镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921934505.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-11
授权号 ：
CN210886209U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
刁训刚秦建平刁诗如
申请人 ：
纳能镀膜丹阳有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市丹阳市云阳镇南三环路科创园C3楼
代理机构 ：
北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
艾变开
优先权 ：
CN201921934505.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50 C23C14/34 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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