一种真空镀膜夹具
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜夹具，具体涉及真空镀膜领域，包括底座，所述底座顶部活动设有支撑柱，所述支撑柱外周设有一号固定盘和二号固定盘，且一号固定盘和二号固定盘竖直方向交错设有若干组，所述二号固定盘两侧均固定设有固定杆，所述一号固定盘顶部和底部边缘均固定设有一号固定齿，所述二号固定盘顶部和底部边缘均固定设有二号固定齿，且二号固定齿与一号固定齿之间对应设置，相邻两组所述二号固定齿之间固定设有弹性片，所述二号固定盘两侧均固定设有固定片，所述固定杆贯穿于对应固定片内部。本实用新型便于快速固定及取出镀件，一次操作即可固定多个镀件，减少夹持固定的操作时间，从而提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921931042.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN211170871U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
张新岳
申请人 ：
深圳市瑞泓塑胶五金镀膜技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区松岗街道燕川社区新达路13号厂房
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN201921931042.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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