一种辐射面控制系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种辐射面控制系统,属于辐射测量领域,包括:第二层吸波模块和滑轨;第二层吸波模块包括n层吸波单元,位于待测目标上方;滑轨固定于第二层吸波模块的上方;第二层吸波模块的中间留有孔洞;工作时,辐射计用于接收孔洞处待测目标的辐射能量和散射能量;n层吸波单元随着滑轨的运动分离,形成不同大小的孔洞,其中,n≥2的整数。还包括第一层吸波模块,用于限制待测目标的最大辐射孔洞。第一层吸波模块和第二层吸波模块设置的孔洞形状互不相同或部分相同或全部相同,设置的孔洞大小互不相同或部分相同。本实用新型提供了一种辐射面控制系统,可直接控制待测目标辐射面的大小和形状,且控制系统的设计并不复杂,实际操作简单方便。
基本信息
专利标题 :
一种辐射面控制系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921840316.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN211826537U
授权日 :
2020-10-30
发明人 :
胡飞伍宏飞苏金龙
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
李智
优先权 :
CN201921840316.6
主分类号 :
G01T1/00
IPC分类号 :
G01T1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
法律状态
2020-10-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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