一种真空分子镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上，所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架。本实用新型结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种真空分子镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921832251.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-29
授权号 ：
CN210796612U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
韩冀皖杨鎏佺张国森张永良
申请人 ：
福建英创金属分子工程科技有限公司
申请人地址 ：
福建省龙岩市新罗区东肖镇曲潭路15号龙岩市科技创业园5号楼东侧
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921832251.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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