下光源曝光装置
授权
摘要
本实用新型属于光学技术领域，更具体的说特别涉及一种下光源曝光装置，包括净化台，所述净化台内设有操作台，所述操作台下方设有曝光机，所述操作台的台面上设有用于安放掩模版的通孔，所述曝光机的曝光头正对着该通孔。本实用新型可以实现在连续生产时掩模版不需要移动，只需更换基片即可，大幅提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
下光源曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921807458.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-25
授权号 ：
CN210605357U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
陈翻范利康秦键沙昭
申请人 ：
武汉正源高理光学有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市华中科技大学华工科技园
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
周琼
优先权 ：
CN201921807458.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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