一种新型用于光刻膜生产的涂布设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种新型用于光刻膜生产的涂布设备，包括机体和锅体，所述机体的上侧中部镶嵌有锅体，所述锅体的内部中端设置有拦截装置，所述拦截装置包括镶嵌槽、套接口、收液槽和吸液海绵套，所述吸液海绵套的上端中部设置有镶嵌槽，本实用新型拦截装置由镶嵌槽、套接口、收液槽和吸液海绵套组成，吸液海绵套通过镶嵌槽套接在放置盘上，通过套接口使接口与卡接头固定连接，在进行人工滴胶时，若胶水滴入过多渗出，渗出的光刻胶流进收液槽中，通过吸液海绵套将其吸收，使其不会向下滑落进入机体内部，通过拦截装置将渗出的光刻胶进行收集吸收，使其不会流进机体内造成设备损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种新型用于光刻膜生产的涂布设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921752770.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-18
授权号 ：
CN211506164U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
高凡
申请人 ：
昆山百利合电子材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市周市镇陆杨富杨路6号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921752770.6
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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