一种涂胶显影设备涂敷单元
授权
摘要

本实用新型涉及半导体集成电路制造技术领域,且公开了一种涂胶显影设备涂敷单元。该涂胶显影设备涂敷单元,包括下盖,所述下盖的上方安装有上盖,所述下盖与上盖的内侧设有内盖,所述内盖的内侧安装有支撑杆,所述支撑杆的顶端安装有吸盘,所述吸盘的顶部吸附有吸附基片,所述上盖的顶端焊接有圆环。本实用新型,通过螺纹套顶端活动安装吸盘,从而方便更换不同尺寸的吸盘,上盖顶端焊接圆环,圆环内侧螺纹连接螺杆,螺杆的一端焊接手轮,且螺杆的另一端活动安装弧形板,三个弧形板两两之间均通过弹性带连接,转动手轮三个弧形板的距离可进行调节,从而实现调节开口的大小,同时可用来与背清喷头精准对位。

基本信息
专利标题 :
一种涂胶显影设备涂敷单元
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921604697.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-25
授权号 :
CN210776179U
授权日 :
2020-06-16
发明人 :
沈慕禹
申请人 :
绍兴华立电子有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市袍江工业区越东路(方徐村)绍兴华立电子有限公司
代理机构 :
浙江永鼎律师事务所
代理人 :
陆永强
优先权 :
CN201921604697.8
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-06-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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