本实用新型公开了一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其中主要由激光发射器、透镜、石英窗口、工艺气进气管、光束阻挡器、衬底、衬底支架、抽气阀门、外接真空系统、水冷系统和镀膜腔体组成。所述激光发射器位于镀膜腔体正上方，通过透镜和石英窗口将激光光束引入镀膜腔体内部，工艺气体在激光激发的作用下等离子化，经过等离子化的气体溅射到基材上，使基材表面上形成等离子体羽辉，从而形成金刚石薄膜。本实用新型是通过改变反应气体的介质和流量比，实现SP2和SP3型金刚石复合化和纳米化。本实用新型采用激光激发镀膜沉积速度可提高10～100倍，甚至更高，在高技术和各种工业领域有着十分广阔的应用前景。