一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体
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摘要

本实用新型揭示一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,包括反应腔本体,所述反应腔本体左侧的底部连通有回流管,所述回流管的左侧连通有收集箱,所述收集箱的顶部通过管道连通有吸泵,所述吸泵的出水端连通有高压喷头,且高压喷头延伸至反应腔本体的内腔。本实用新型通过吸泵吸取收集箱内腔蚀刻机液体,通过高压喷头高压喷淋,进行蚀刻工作,蚀刻机液体通过第一过滤板的过滤流入回流管内,再由第二过滤板过滤,最终流入收集箱内,从而进行循环使用,从而提高第一过滤板和第二过滤板的过滤效果,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。

基本信息
专利标题 :
一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921243608.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-02
授权号 :
CN211273722U
授权日 :
2020-08-18
发明人 :
杨志军
申请人 :
苏州爱特维电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山长兴东路268号
代理机构 :
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 :
黄智明
优先权 :
CN201921243608.1
主分类号 :
B01D29/03
IPC分类号 :
B01D29/03  B01D29/56  B01D29/64  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D29/00
不包括在组B01D24/00至B01D27/00中的过滤期间过滤元件不动的过滤器,例如压滤器或吸滤器;其过滤元件
B01D29/01
带有平的过滤元件
B01D29/03
自支撑的
法律状态
2020-08-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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