一种紫外成像仪
授权
摘要
本实用新型涉及光学成像技术领域，公开了一种紫外电晕成像仪，其中，一种是单通道紫外成像仪，另一种是双通道紫外成像仪。单通道紫外成像仪利用紫外照明灯对背景进行照明，利用日盲滤光片可以获得背景图像，例如高压设备，在有电晕时照明灯自动熄灭；在无照明时，日盲滤光片只对目标发出的紫外光成象，例如缺陷产生的电晕；由于是同一通道，不管距离远近，不管白天黑夜，两个图像都能严格的通过电路板点对点重叠，知道缺陷的确切位置；双通道紫外成像仪，紫外光和可见光共用一个宽谱物镜，不但体积小，而且视场一样大，没有视差，经图像融合板后可使电晕图像和背景图像完全一样大，既能分别观察，也能动态对准，可以实现对紫外电晕的检测与定位。
基本信息
专利标题 ：
一种紫外成像仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920993053.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-28
授权号 ：
CN210665931U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
张幼文
申请人 ：
杭州赫太克科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区北干街道建设一路118号汇林科创园2-204室
代理机构 ：
浙江杭知桥律师事务所
代理人 ：
涂欢
优先权 ：
CN201920993053.6
主分类号 ：
G01R31/12
IPC分类号 ：
G01R31/12 G01J1/04 G01J1/02 G01J1/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R31/12
•测试介电强度或击穿电压
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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