本实用新型公开了一种增设加热炉的等离子体处理设备，其包括依次连接的进料区、加热区、过渡区、处理区以及取料区；进料区设有第一传送机构及驱动其升降的第一驱动机构；加热区设有加热炉及位于其下方的第二传送机构；过渡区设有第三传送机构及驱动其升降的第三驱动机构；处理区设有等离子体真空箱以及位于其下方的第四传送机构；取料区设有第五传送机构及驱动其升降的第五驱动机构；当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时，与加热炉、等离子体真空箱平齐，当降至最低位时，与第二传送机构、第四传送机构平齐。本实用新型通过增设加热区及过渡区，使材料经加热预处理“活化”后，再进行等离子处理，提升材料性能。