磁共振成像系统

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本申请提供一种磁共振成像系统，端盖与磁体端面之间可以设置一个、二个或多个密封结构。通过密封结构实现端盖与磁体的密封连接。密封结构采用柔性结构，利用柔性结构增加弹性，可以灵活调整使得在一定的内外压差作用下保证不泄漏，耐压力且密封性好。从而，有利于磁共振成像系统形成密封的真空环境，以防止梯度线圈梯度切换产生的噪声向外传播。同时，通过多个密封结构将磁体与端盖间隔开，避免了磁体与端盖的直接接触。从而，磁体可以避免将本身的振动传递给端盖。通过多个密封结构避免了端盖成为另一个发声源，有效的隔断了声音的传播途径。磁共振成像系统整体上减少了梯度振动产生的噪声传播途径。

基本信息

专利标题：

磁共振成像系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920938624.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-20

授权号：

CN210401642U

授权日：

2020-04-24

发明人：

刘勇余兴恩刘曙光杨绩文

申请人：

上海联影医疗科技有限公司

申请人地址：

上海市嘉定区城北路2258号

代理机构：

北京华进京联知识产权代理有限公司

代理人：

刘葛

优先权：

CN201920938624.6

主分类号：

G01R33/48

IPC分类号：

G01R33/48 G01R33/385 G01R33/28