一种石材抛光、研磨清洁垫
授权
摘要
本实用新型涉及抛光技术领域，且公开了一种石材抛光、研磨清洁垫，解决了一般的清洁垫在使用的过程中，清洁垫的底部容易处于力度分布不均匀的现象，且在加抛光液体时均通过液体自由扩散，不能够保证抛光液体均匀分布的问题，其包括垫体，所述垫体的外壁开设有通槽；本实用新型，通过设置的安装板、伸缩杆和伸缩弹簧等的配合使用，能够避免垫体在工作时因受力不均而对大理石的抛光造成不良影响；通过设置的连接管、喷管和连通管等的配合使用，能够抛光液体通过连接管输送到顶端的喷管内部，顶端的喷管通过连通管将抛光液体输送到底端的喷管内部，由于喷管呈螺旋状安装，故能够将抛光液体均匀的喷洒在垫体的内部，有利于提高抛光的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种石材抛光、研磨清洁垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920924061.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-19
授权号 ：
CN210281971U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
陈梦楠陈孝章卢杨舜陈野陈应挺袁俊玲陈美霞陈华实
申请人 ：
上海欧柏森环境工程管理有限公司
申请人地址 ：
上海市虹口区物华路11号716室
代理机构 ：
上海微策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤俊明
优先权 ：
CN201920924061.5
主分类号 ：
B24D7/02
IPC分类号 ：
B24D7/02 B24D7/16 B24B57/02 B24B37/26
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D7/00
不仅以周边起作用的黏结砂轮或镶入磨块的砂轮；及其衬套或固定件
B24D7/02
整体砂轮
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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