用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架
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摘要
一种用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架，包括：底部和凸起的边缘有刻槽、中央有螺孔的清洗架底，中央有圆孔的压板，用于固定压板和连接架底的头部带螺纹、中间凸起、尾部带手柄的连接压杆。本实用新型结构简单，将反射体垂直放入架底底部的刻槽，通过控制底部刻槽的长度使反射体仅部分进入，反射体会自动嵌入到边缘的刻槽，从而使反射体保持垂直不倒状态；反射体与清洗架形成一个整体，可以一起放入清洗液中进行清洗，而过程中反射体不会掉落，反射体互相之间不会摩擦和碰撞，保证反射体表面光洁度不会损害；架底刻槽是通透的，清洗完成后，清洗液易于去除；清洗架由聚四氟材料制作，可适用于各种清洗液。
基本信息
专利标题 ：
用于全反射X射线荧光分析中的载样反射体清洗架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920820052.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-03
授权号 ：
CN210304953U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
詹秀春樊兴涛储彬彬郭威
申请人 ：
国家地质实验测试中心
申请人地址 ：
北京市西城区百万庄大街26号
代理机构 ：
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤东凤
优先权 ：
CN201920820052.1
主分类号 ：
B08B13/00
IPC分类号 ：
B08B13/00 G01N23/223
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B13/00
一般用于清洁机器或设备的附件或零件
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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