一种容性耦合装置及含有该容性耦合装置的滤波器
授权
摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置及含有该容性耦合装置的滤波器，其包括介质本体，介质本体的表面上设置有多个谐振频率调谐孔，介质本体和谐振频率调谐孔的表面上镀有第一导电层，相邻两个谐振频率调谐孔之间的介质本体表面上设置有负耦合槽，负耦合槽内设置有第二导电层，其特征在于：负耦合槽周围的介质本体表面上设置有用于绝缘第一导电层和第二导电层的绝缘层。本实用新型不仅实现了介质滤波器之间的容性耦合，提高了滤波器性能，降低滤波器的体积，而且无需对负耦合槽的加工深度和宽度进行进一步的限定，方便了容性耦合装置的加工和制造。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合装置及含有该容性耦合装置的滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920758520.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-24
授权号 ：
CN209730123U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
刘文朱晖金锐
申请人 ：
武汉凡谷电子技术股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区光谷大道藏龙岛九凤街5号凡谷电子工业园4号楼2楼
代理机构 ：
武汉开元知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄行军
优先权 ：
CN201920758520.7
主分类号 ：
H01P5/02
IPC分类号 ：
H01P5/02 H01P1/20
法律状态
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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