本实用新型公开了一种用于硅片烧结炉的上料装置，涉及硅片加工技术领域。包括基座，基座的底部左右两侧均焊接有支架，基座的顶部左右两侧分别固定连接有第一支柱和第二支柱，第一支柱和第二支柱的顶部分别转动连接有主动辊和从动辊，主动辊和从动辊的辊体之间套有传送带，传送带的带体外侧间隔均匀固定连接有传送托，主动辊的辊轴一端穿过第一支柱固定连接有从动轮，基座的左侧通过固定座固定连接有伺服电机，伺服电机的输出轴端部固定连接有主动轮，主动轮和从动轮之间通过皮带传动连接。通过在传送带上设置传送托，避免了传送不稳定的现象，并且可以让硅片在传送带上竖立移动，相对于平铺移动而言，增加了时间段内的硅片传送数量。