显示基板、其制作方法及显示装置
授权
摘要
本申请提供一种显示基板、其制作方法及显示装置,涉及显示技术领域,包括彩膜基板,彩膜基板包括衬底基板、遮光层、色阻层和微结构层;遮光层包括遮光部和开口,开口沿垂直于衬底基板的方向上贯穿遮光层;色阻层包括多个色阻,色阻位于开口内;微结构层位于衬底基板与遮光层之间,包括呈阵列排布的微结构,各微结构靠近遮光层的一侧形成第一凹凸结构;微结构层的折射率为n1,衬底基板的折射率为n2,n1和n2的差值小于等于预定值。本申请在衬底基板与遮光层之间设置与衬底基板的折射率相近的微结构层,避免衬底基板与遮光层之间的折射率差异较大造成光反射率较大的问题,有利于降低显示基板的总反射率,改善显示效果,提升用户观看体验。
基本信息
专利标题 :
显示基板、其制作方法及显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110928037A
申请号 :
CN201911378072.9
公开(公告)日 :
2020-03-27
申请日 :
2019-12-27
授权号 :
CN110928037B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
张致远桂坤白婷婷王建栋
申请人 :
上海天马微电子有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区汇庆路888、889号
代理机构 :
北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
于淼
优先权 :
CN201911378072.9
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335 G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2022-05-17 :
授权
2020-04-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20191227
申请日 : 20191227
2020-03-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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