用于检测敌敌畏的基于CsPbBr3...
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摘要
本发明提供了一种用于检测敌敌畏的基于CsPbBr3量子点的分子印迹介孔材料的制备方法，其包括以下步骤：合成介孔；原位制备钙钛矿量子点；制备基于CsPbBr3量子点的分子印迹介孔材料。本发明的方法成功制备了具有规则孔道介孔结构的分子印迹介孔材料，其对敌敌畏响应特异性高，检测快速灵敏，回收率高。
基本信息
专利标题 ：
用于检测敌敌畏的基于CsPbBr3量子点的分子印迹介孔材料的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110699064A
申请号 ：
CN201910814721.9
公开（公告）日 ：
2020-01-17
申请日 ：
2019-08-30
授权号 ：
CN110699064B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
梁勇张立国黄宁
申请人 ：
中山良创印迹材料科技有限公司;华南师范大学
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区祥兴路6号数贸大厦南冀5层508房
代理机构 ：
广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人 ：
林玉芳
优先权 ：
CN201910814721.9
主分类号 ：
C09K11/02
IPC分类号 ：
C09K11/02 C09K11/66 B82Y20/00 B82Y30/00 B82Y40/00 G01N21/64 C08G77/04 C08J9/28 C08L83/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K11/00
发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料
C09K11/02
以特殊材料作为黏合剂，用于粒子涂层或作悬浮介质
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2020-02-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09K 11/02
申请日 : 20190830
申请日 : 20190830
2020-01-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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