下垂控制方法、装置、计算机设备和可读存储介质
授权
摘要
本申请涉及一种下垂控制方法、装置、计算机设备和可读存储介质。所述方法包括：首先建立电压影响因子模型，其中，所述电压影响因子模型用于表征电压下垂倒数、目标下垂倒数、电压配合参数、电压裕度之间的关系；其次，根据所述电压影响因子模型更新所述电压下垂倒数，并确定电压下垂系数；最后，根据所述电压下垂系数，控制换流站的直流电压和功率。本申请的方法具有很好的自适应性。
基本信息
专利标题 ：
下垂控制方法、装置、计算机设备和可读存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110649646A
申请号 ：
CN201910763525.3
公开（公告）日 ：
2020-01-03
申请日 ：
2019-08-19
授权号 ：
CN110649646B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
刘国伟王一振赵宇明王静李艳
申请人 ：
深圳供电局有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市罗湖区深南东路4020号电力调度通信大楼
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
傅康
优先权 ：
CN201910763525.3
主分类号 ：
H02J3/38
IPC分类号 ：
H02J3/38 H02J3/36 H02J3/26 H02J3/12
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-02-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H02J 3/38
申请日 : 20190819
申请日 : 20190819
2020-01-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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