保护装置
授权
摘要
本发明涉及一种用于传感器(2)的膜(3)的保护装置(1)；传感器(2)确定由作用在膜(3)上的介质所传递的物理参量；保护装置(1)可安装在传感器(2)上；保护装置(1)具有纵向轴线(Z)；保护装置(1)在安装在传感器(2)上的状态下保护膜(3)免受至少一个辐射源(9)的电磁辐射；保护装置(1)具有至少一个通道(7)，介质在保护装置(1)安装在传感器(2)上的状态下可以通过通道(7)到达膜(3)；在保护装置(1)安装在传感器(2)上的状态下，电磁辐射可以在通道(7)中传播；其中，在通道(7)中传播的电磁辐射只有在通道的壁、简称通道壁(71)上进行至少一次反射之后才到达膜(3)。
基本信息
专利标题 ：
保护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111602043A
申请号 ：
CN201880085654.5
公开（公告）日 ：
2020-08-28
申请日 ：
2018-12-19
授权号 ：
CN111602043B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
C·希尔
申请人 ：
基斯特勒控股公司
申请人地址 ：
瑞士温特图尔
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄艳
优先权 ：
CN201880085654.5
主分类号 ：
G01L19/06
IPC分类号 ：
G01L19/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L19/00
用于测量流动介质的稳定或准稳定压力的仪表的零部件或附件，就这些零部件或附件而论不是特殊形式的压力计所专用的
G01L19/06
防止过负载的装置或防止被测介质对测量设备产生有害影响的装置或防止测量设备对被测介质产生有害影响的装置
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-09-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 19/06
申请日 : 20181219
申请日 : 20181219
2020-08-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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