光学相干层析成像装置
授权
摘要
一种光学相干层析成像装置,具有光源、测量光生成部、参照光生成部、干涉光生成部、干涉光检测部和根据干涉信号生成层析图像的运算部。干涉光检测部具有:第1检测器和第2检测器,其将干涉光转换为干涉信号;第1信号处理部,其对从第1检测器输出的干涉信号进行采样;和第2信号处理部,其对从第2检测器输出的干涉信号进行采样。第1信号处理部和第2信号处理部分别按从外部输入该信号处理部的采样时间对所述干涉信号进行采样。在由测量光生成部生成的光中包括第1校正光和第2校正光。运算部使用基于第1校正光的第1校正信号和基于所述第2校正光的第2校正信号来校正第1信号处理部和第2信号处理部的采样时间的偏移。据此,能够高精度地对多个信号处理部的采样时间的偏移进行校正。
基本信息
专利标题 :
光学相干层析成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110057286A
申请号 :
CN201811574877.6
公开(公告)日 :
2019-07-26
申请日 :
2018-12-21
授权号 :
CN110057286B
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
山成正宏
申请人 :
株式会社多美
申请人地址 :
日本爱知县
代理机构 :
北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
韩登营
优先权 :
CN201811574877.6
主分类号 :
G01B9/02
IPC分类号 :
G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B9/00
组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器
G01B9/02
干涉仪
法律状态
2022-05-13 :
授权
2020-11-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 9/02
申请日 : 20181221
申请日 : 20181221
2019-07-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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