光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法
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摘要
光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法，以稳定的条件高效地修正在转印用图案上产生的缺陷，并恢复该转印用图案的转印性。光掩模具备在透明基板上形成的转印用图案。转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1(μm)；辅助图案，其配置在主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d(μm)；及遮光部，其构成除了主图案和辅助图案以外的区域。遮光部是在透明基板上至少形成遮光膜而成的。辅助图案具有针对曝光用光的代表波长的光的透射率T(％)，并且隔着遮光部而将主图案的周围包围。在辅助图案上产生白缺陷且该白缺陷为辅助图案的面积的1/8以下时，在白缺陷部分形成遮光性的补充膜。
基本信息
专利标题 ：
光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109491193A
申请号 ：
CN201811056319.0
公开（公告）日 ：
2019-03-19
申请日 ：
2018-09-11
授权号 ：
CN109491193B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
三好将之一之濑敬
申请人 ：
HOYA株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄纶伟
优先权 ：
CN201811056319.0
主分类号 ：
G03F1/26
IPC分类号 ：
G03F1/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/26
相移掩膜；PSM空白；其制备
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-04-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/26
申请日 : 20180911
申请日 : 20180911
2019-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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