陶瓷基板用Logo及其制备方法与包含其的陶瓷盖板和电子设...
授权
摘要
本发明提供了一种陶瓷基板用Logo及其制备方法与包含其的陶瓷盖板和电子设备，涉及陶瓷面板技术领域。该陶瓷基板用Logo包括用于与陶瓷基板接触的铬金属层和设置于所述铬金属层表面的光学层，所述光学层为氧化硅层、硅层和氮化硅层的组合。利用该陶瓷基板用Logo能够缓解现有技术中缺少一种具有可以与陶瓷基体结合的彩色Logo的技术问题，达到不同客户对Logo个性化色彩需求的技术效果。
基本信息
专利标题 ：
陶瓷基板用Logo及其制备方法与包含其的陶瓷盖板和电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110484868A
申请号 ：
CN201810465056.2
公开（公告）日 ：
2019-11-22
申请日 ：
2018-05-15
授权号 ：
CN110484868B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
周群飞饶桥兵湛玉龙
申请人 ：
蓝思科技（长沙）有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市长沙县长沙经济技术开发区漓湘路99号
代理机构 ：
北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王闯
优先权 ：
CN201810465056.2
主分类号 ：
C23C14/18
IPC分类号 ：
C23C14/18 C23C14/10 C23C14/06 C23C14/35 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/18
在其他无机物基体上
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2019-12-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/18
申请日 : 20180515
申请日 : 20180515
2019-11-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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