变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法

授权

摘要

本发明从物体侧依次具备具有正的光焦度的第1透镜组、具有负的光焦度的第2透镜组、具有正的光焦度的第3透镜组以及具有负的光焦度的后续透镜组，在从广角端状态向远焦端状态进行变倍时，所述第1透镜组与所述第2透镜组之间的间隔变化，所述第2透镜组与所述第3透镜组之间的间隔变化，所述第3透镜组与所述后续透镜组之间的间隔变化，所述第3透镜组或所述后续透镜组具有在从无限远物体向近距离物体进行对焦时移动的对焦透镜组，且满足预定的条件式，从而能够良好地对各像差进行校正。

基本信息

专利标题：

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111095071A

申请号：

CN201780094587.9

公开（公告）日：

2020-05-01

申请日：

2017-09-11

授权号：

CN111095071B

授权日：

2022-05-10

发明人：

梅田武

申请人：

株式会社尼康

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

季莹

优先权：

CN201780094587.9

主分类号：

G02B15/20

IPC分类号：

G02B15/20 G02B13/18