成像设备及其制造方法
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摘要
提供成像设备及其制造方法，成像设备包括鼓单元和曝光头。鼓单元包括感光鼓。曝光头包括：沿着感光鼓的旋转轴线方向对准的多个光发射器；将来自光发射器的光聚焦在感光鼓上的透镜阵列；被构造为支撑光发射器和透镜阵列的头框架，头框架具有面向旋转轴线的基准面；实心间隔器，具有第一面和第二面，第一面面向基准面，第二面接触鼓单元；和介入基准面和第一面之间的片材状间隔器。
基本信息
专利标题 ：
成像设备及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108227431A
申请号 ：
CN201711346764.6
公开（公告）日 ：
2018-06-29
申请日 ：
2017-12-15
授权号 ：
CN108227431B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
塚田隆正横井淳一
申请人 ：
兄弟工业株式会社
申请人地址 ：
日本爱知县名古屋市
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
黄刚
优先权 ：
CN201711346764.6
主分类号 ：
G03G15/04
IPC分类号 ：
G03G15/04 G03G21/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G15/00
应用电荷图形的电记录工艺的设备
G03G15/04
曝光用的，即将原件图像光学投影到光导记录材料上而进行图像曝光
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2019-10-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03G 15/04
申请日 : 20171215
申请日 : 20171215
2018-06-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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