收纳柜体结构
专利权的终止
摘要
本实用新型是有关一种容置光掩膜盒的收纳柜体结构,特别有关一种防止光掩膜盒内部在排气过程中形成负压的收纳柜体,其由一框体构成,该框体上设有至少一进气回路与一排气回路,且框体内设有一个或多数承置单元,各承置单元具有至少一连接进气回路的进气阀件及至少一连接排气回路的稳压阀件,光掩膜盒具有对应前述承置单元进气阀件与稳压阀件的气阀,其中稳压阀件的气流通道可跨设于对应气阀气流通道孔的内、外,使稳压阀件可同步吸排光掩膜盒内部空间与外部环境的气体,让收纳柜体可通过稳压阀件作用,避免光掩膜盒内部空间因排气量大于进气量而产生负压,如此可便于光掩膜盒的开启,且不致产生强力瞬间气流,可以避免气流伤及光掩膜盒内部光掩膜表面。
基本信息
专利标题 :
收纳柜体结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820127012.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-06-19
授权号 :
CN201242659Y
授权日 :
2009-05-20
发明人 :
陈俐殷卢诗文黄柏凯
申请人 :
亿尚精密工业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾高雄县
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿 宁
优先权 :
CN200820127012.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G03F1/00 B65G1/02 B65D85/00 B65D81/00 B65D81/20 H01L21/677 H01L21/673
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-09-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101005908680
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008201270120
申请日 : 20080619
授权公告日 : 20090520
号牌文件序号 : 101005908680
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008201270120
申请日 : 20080619
授权公告日 : 20090520
2009-05-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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