发光二极管支架结构
专利权的终止
摘要
一种发光二极管支架结构，其是在各个导线架的固晶部的至少一侧形成埋置于胶座中的突起部，以增强胶座与导线架之间的结合度，并防止水气渗入至导线架的固晶部，借此以解决现有技术中导线架容易与胶座脱离，或是因导线架与胶座之间产生间隙而导致水气渗入至发光二极管支架结构内部的问题。如此一来，即可有效地提升发光二极管支架结构的制程良率，并延长配置于此发光二极管支架结构中的发光二极管的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
发光二极管支架结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820117791.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-06-18
授权号 ：
CN201229954Y
授权日 ：
2009-04-29
发明人 ：
朱新昌陈立敏李廷玺
申请人 ：
一诠精密工业股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台北县
代理机构 ：
北京市浩天知识产权代理事务所
代理人 ：
许志勇
优先权 ：
CN200820117791.6
主分类号 ：
H01L33/00
IPC分类号 ：
H01L33/00 H01L23/488 H01L23/13
法律状态
2018-07-13 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20080618
授权公告日 : 20090429
申请日 : 20080618
授权公告日 : 20090429
2009-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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