化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法。它包括承载衬底的坩埚放入化学气相沉积装置中，通入反应气体，特征是，在承载衬底的坩埚上覆盖金属网。所述金属网尺寸与坩埚尺寸相同，网格的尺寸是0.1－1mm。金属网的材料不与气相物质和沉积物质发生化学反应。金属网的材料熔点高于化学气相的熔点。本发明有效消除了化学气相沉积过程中介观生长区域内各处温度分布的不均匀性，保证了沉积基底上介观区域内材料生长的温度一致性，尤其对纳米材料的可控均匀生长提供了有效途径。
基本信息
专利标题 ：
化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1814858A
申请号 ：
CN200610049615.9
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-02-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沙健何铭
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
310027浙江省杭州市浙大路38号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
张法高
优先权 ：
CN200610049615.9
主分类号 ：
C23C16/52
IPC分类号 ：
C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/52
镀覆工艺的控制或调整
法律状态
2010-06-23 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101003139257
IPC(主分类) : C23C 16/52
专利号 : ZL2006100496159
申请日 : 20060227
授权公告日 : 20080326
号牌文件序号 : 101003139257
IPC(主分类) : C23C 16/52
专利号 : ZL2006100496159
申请日 : 20060227
授权公告日 : 20080326
2008-03-26 ：
授权
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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