电路设计图案的结构元素几何尺寸的优化方法及其用途
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及用于优化图案(22)的结构元素(24)的几何尺寸的方法。首先提供电路设计图案(22)和多个基本图案(30，32)。随后，迭代地将电路设计图案(22)分解为相应的基本图案，以便在存在与基本图案的匹配的情况下对多个结构元素(24)的图案的那些部分进行分类。之后针对在前一步骤中未被分类的图案(22)的那些部分，确定其它的基本图案(34)。在应用用于优化结构元素的几何尺寸的规范之后，将优化的基本图案插入到电路设计中，以便实现光学成像特性的改进。本发明还涉及使用该方法来生产光掩膜(18)。
基本信息
专利标题 ：
电路设计图案的结构元素几何尺寸的优化方法及其用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828614A
申请号 ：
CN200610006698.3
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-02-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B·路德维希R·克勒M·黑斯迈尔A·泽姆勒D·迈尔C·内尔谢尔J·蒂勒
申请人 ：
因芬尼昂技术股份公司
申请人地址 ：
德国慕尼黑
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
程天正
优先权 ：
CN200610006698.3
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50
相关图片
法律状态
2009-08-26 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-25 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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