用于改善的化学机械抛光的方法和设备
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种抛光垫，其包括在一侧具有粘附在其上的多孔浆液分布层而在另一侧具有可压缩下层的导板。穿过所述浆液分布层和所述导板彼此交叉从而相对彼此维持在平面取向的多个抛光元件和导板粘附于柔性的下层上，以及每个抛光元件在与所述浆液分布层相邻的所述导板的表面上方伸出。可选地，薄膜可设置于所述导板和所述浆液分布层之间。所述抛光垫还可包括磨损传感器以有助于确定垫磨损和寿命终点。
基本信息
专利标题 ：
用于改善的化学机械抛光的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048260A
申请号 ：
CN200580037158.5
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
拉杰夫·巴贾
申请人 ：
拉杰夫·巴贾
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200580037158.5
主分类号 ：
B24D11/00
IPC分类号 ：
B24D11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D11/00
柔性磨料的结构特征；生产这类材料的特点
法律状态
2021-09-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B24D 11/00
申请日 : 20051005
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20201005
申请日 : 20051005
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20201005
2009-07-15 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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