负型光阻剂组合物
专利申请权、专利权的转移
摘要
本发明是关于一种负型光阻剂组合物，尤其一种含有聚亚酰胺的负型光阻剂组合物。本发明的负型光阻剂组合物的一主要成份为(a)聚亚酰胺其具有悬垂的－COOH(羧酸基)且部分的羧酸基与带有环氧基团的(甲基)丙烯酸酯单体(glycidyl(meth)acrylate)反应形成键结，而残留的另一部分羧酸基与另外添加的成份(b)带有第三胺基及C＝C双键的单体形成离子键结。本发明的负型光阻剂组合物的另一成份(c)为光起始剂(photoinitiator)或称光敏感剂(photosensitizer)。以上成份(a)至(c)均溶解于一溶剂中。
基本信息
专利标题 ：
负型光阻剂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1987650A
申请号 ：
CN200510134663.3
公开（公告）日 ：
2007-06-27
申请日 ：
2005-12-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑志龙蔡政禹吕常兴金进兴
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
李柏
优先权 ：
CN200510134663.3
主分类号 ：
G03F7/037
IPC分类号 ：
G03F7/037 G03F7/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
G03F7/037
黏结剂是聚酰胺或聚酰亚胺
法律状态
2013-09-25 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101662453579
IPC(主分类) : G03F 7/037
专利号 : ZL2005101346633
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 财团法人工业技术研究院
变更后权利人 : 律胜科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号
变更后权利人 : 中国台湾台南市善化区南科九路八号
登记生效日 : 20130905
号牌文件序号 : 101662453579
IPC(主分类) : G03F 7/037
专利号 : ZL2005101346633
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 财团法人工业技术研究院
变更后权利人 : 律胜科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号
变更后权利人 : 中国台湾台南市善化区南科九路八号
登记生效日 : 20130905
2009-12-23 ：
授权
2007-08-22 ：
实质审查的生效
2007-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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2、
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