成像元件
专利权的终止
摘要
一种制备生电层的方法，包括：在乙酸正丁酯和甲基异丁基酮的溶液中，在聚合物基体中分散光电导酞菁粒子，所述基体包括氯乙烯、醋酸乙烯酯、马来酸和丙烯酸羟烷基酯的聚合物成膜反应产物。还制备了包括根据此方法制备的生电层的电子照相成像元件。
基本信息
专利标题 ：
成像元件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790171A
申请号 ：
CN200510131472.1
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
L·张C·C·陈N·L·贝尔克纳普F·J·罗佩斯L·－B·林A·伊安尼迪斯E·J·小拉迪甘J·S·钱伯斯
申请人 ：
施乐公司
申请人地址 ：
美国康涅狄格州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
郭广迅
优先权 ：
CN200510131472.1
主分类号 ：
G03G5/05
IPC分类号 ：
G03G5/05 G03G5/06 G03G5/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G5/00
采用辐照用于原稿记录的记录构件；记录构件的制造；所用材料的选择
G03G5/02
电荷接受层
G03G5/04
光导层；电荷发生层或电荷转移层；上述各层的添加剂和黏接剂
G03G5/05
有机粘结材料；带有光导层片基的涂层方法；光导层用的惰性添加剂
法律状态
2019-12-06 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03G 5/05
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20100929
终止日期 : 20181214
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20100929
终止日期 : 20181214
2010-09-29 ：
授权
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
