多孔硅/羟基磷酸钙复合衬底的制备方法
专利权的终止
摘要

一种多孔硅/羟基磷酸钙复合衬底的制备方法,属生物、材料与微电子多学科交叉的技术领域。该方法包括羟基磷酸钙凝胶的制备,将羟基磷酸钙凝胶涂布在多孔硅片上和经高温处理三个步骤,制得多孔硅/羟基磷酸钙复合衬底。该方法有制备工艺简单,易于实施,成本低的优点。此外,该方法的产品性能好:复合衬底的羟基磷酸钙层与多孔硅层结合牢固和复合衬底具有高的生物活性和生物相容性,特别适合于作生物芯片、可植入人或动物体内的传感器和电子电路芯片的衬底。

基本信息
专利标题 :
多孔硅/羟基磷酸钙复合衬底的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1819114A
申请号 :
CN200510112156.X
公开(公告)日 :
2006-08-16
申请日 :
2005-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈少强朱自强朱建中
申请人 :
华东师范大学
申请人地址 :
200062上海市中山北路3663号
代理机构 :
上海德昭知识产权代理有限公司
代理人 :
程宗德
优先权 :
CN200510112156.X
主分类号 :
H01L21/02
IPC分类号 :
H01L21/02  G01N33/48  C12Q1/00  C12Q1/68  A61L31/12  A61L31/16  
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IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2012-02-29 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101192315659
IPC(主分类) : H01L 21/02
专利号 : ZL200510112156X
申请日 : 20051221
授权公告日 : 20080416
终止日期 : 20101221
2008-04-16 :
授权
2006-10-11 :
实质审查的生效
2006-08-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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