大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
专利权的终止
摘要
一种大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜的方法及装置,其特征是在大气压化学气相沉积装置的反应器中增加气流分配器,使气体均匀流过放电区并在基材包括软基材表面均匀、快速地沉积具有相同组分的膜层。在装置的反应器中放置不同个数的平面放电单元,增加或减少气体穿越放电区的空间距离,以调节沉积膜的组分,同时借助放电区辐射的热量在基材表面生长具有一定结晶态的膜层。又在气流方向施加静电高压电场,调整成膜的前驱物或分子碎片在向基材表面输运过程中的空间构型,以调控膜层在基材表面的生长形貌。
基本信息
专利标题 :
大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1786262A
申请号 :
CN200510110094.9
公开(公告)日 :
2006-06-14
申请日 :
2005-11-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
徐金洲徐绍魁周荃彭小波张菁
申请人 :
东华大学
申请人地址 :
201612上海市松江新城区人民北路2999号
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
孙粹芳
优先权 :
CN200510110094.9
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2012-01-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101168909744
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2005101100949
申请日 : 20051107
授权公告日 : 20080116
终止日期 : 20101107
号牌文件序号 : 101168909744
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2005101100949
申请日 : 20051107
授权公告日 : 20080116
终止日期 : 20101107
2008-01-16 :
授权
2006-08-09 :
实质审查的生效
2006-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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