聚甲基丙烯酸甲酯材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种聚甲基丙烯酸甲酯材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法，包括步骤如下：(A)制作光刻掩模版；(B)处理硅衬底；(C)在硅衬底表面涂覆聚酰亚胺，烘烤固化；(D)在固化后的聚酰亚胺薄膜上生长金属薄膜作为电铸阴极；(E)在(D)处理后的样片上涂覆厚光刻胶；(F)对涂覆好的厚光刻胶进行曝光、显影、坚膜；(G)在光刻胶图形结构上生长一层金属薄膜作为X射线光刻掩模吸收体；(H)去除光刻胶及其下面的电铸阴极薄膜；(I)进行背面光刻并腐蚀硅；(J)制备钛片作为支撑体；(K)在经处理的钛片表面涂敷聚甲基丙烯酸甲酯，进行烘烤固化；(L)在步骤(K)形成的X射线光刻胶上进行X射线光刻、显影。
基本信息
专利标题 ：
聚甲基丙烯酸甲酯材料一维X射线折衍射微结构器件的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1786741A
申请号 ：
CN200510061880.4
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
乐孜纯梁静秋董文全必胜
申请人 ：
乐孜纯
申请人地址 ：
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学信息工程学院
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
黄美娟
优先权 ：
CN200510061880.4
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G03F7/20 G01N23/083 A61N5/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2010-02-03 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-07-18 ：
授权
2006-08-09 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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